什麽是PVD 技術 

PVD-物理氣相沉積：指利用物理過程實現物質（zhì）轉移，將原子或分子由源轉移到基（jī）材表麵上的過程。

它的作用是可以使某些有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴塗在性能較低的母體上，使得母體具有（yǒu）更好的性能。

PVD基本方法：真空蒸鍍、濺鍍 、離（lí）子（zǐ）鍍（dù）（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應（yīng）離子鍍、射頻離子鍍、直流放（fàng）電離子鍍）。

PVD 技術是目前國際上科技（jì）含量高且（qiě）被廣（guǎng）泛應用的離子（zǐ）鍍膜技術，它具有 鍍膜層致密均勻、附著力（lì）強、鍍（dù）性好、沉積速度快、處理（lǐ）溫（wēn）度低（dī）、可鍍材料（liào）廣（guǎng）泛等特點（diǎn）.

PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態下，等離子場下的輝光反應，亦是一個高淨化處理過程；鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主，鈦是金（jīn）屬中最與人體皮膚具親和性能（néng）的，使得PVD 產品本（běn）身具備純淨的環保性能。