氣體的分布狀況對於平板基片鍍膜來說是極其重要的，通過機械結構設計，使氣體密度的變化率在濺射沉積區域（yù）內的盡（jìn）量小。

而在區域外，使係統的流導盡量的大，以提高氣體的利用率和抽氣係統的效率。

控製氣體分布的機械部件（jiàn）或結構包括布氣係統、真空室的結構、抽氣係統等三個部分。