真空（kōng）蒸發鍍（dù）膜是指在真空條件下（xià），通過（guò）蒸發源加熱蒸發某種物質使其沉（chén）積在基板（bǎn）材料表麵來獲得薄膜的一種技術（shù）。

被蒸發（fā）的物質被稱為蒸鍍材料。蒸發鍍膜最（zuì）早由（yóu） M.法拉第在 1857年提出，經過一百（bǎi）多年的發展，現已成為主流鍍膜技術之一。

真空蒸發鍍膜係統一般由三個部分組成：真空室、蒸發源或蒸發加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。

在真空（kōng）中為了蒸發待沉積的材料，需要容（róng）器來支撐或盛裝蒸發物，同時需要提供（gòng）蒸發熱使蒸發物達到（dào）足夠高的溫度以產生（shēng）所需的蒸汽壓。

真空蒸發鍍（dù）膜（mó）技（jì）術具有簡單（dān）便利、操作方便、成膜速度快等特點，是應用廣泛的鍍膜技術（shù），主要（yào）應用於光學元器件、LED、平板顯示（shì）和半（bàn）導體分立器的鍍膜（mó）。

真（zhēn）空（kōng）鍍膜材料按照化學成（chéng）分主（zhǔ）要可以分為金屬/非金（jīn）屬顆粒蒸發料（liào），氧化物蒸發料，氟化物蒸發料等。