濺射靶材具有高純度、高密度、多（duō）組元、晶粒均勻等特點，一般由靶坯和背板組成。

靶坯屬於濺射靶材的核心部分，是（shì）高速離子束流轟擊的目標（biāo）材料。

靶坯（pī）被離子撞擊後，其（qí）表麵原子被濺射飛散出來並沉積於基板上（shàng）製成電子薄膜。

由於高純度金屬強度（dù）較低（dī），因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機台環境內完成濺射過程。

超高純金屬（shǔ）的濺射靶（bǎ）坯需要與背板通過（guò）不同（tóng）的焊接（jiē）工藝進行接合，背板起到主要起到固定濺（jiàn）射（shè）靶材（cái）的作用，且需要具備良好（hǎo）的導電、導（dǎo）熱性能。