物理蒸鍍就是把物質加熱揮發，然後將其蒸氣沉積在預定（dìng）的基材上（shàng）。由（yóu）於蒸發源（yuán）須加熱揮發（fā），又是在真空（kōng）中進行，故（gù）亦稱（chēng）為熱蒸鍍或真空蒸鍍。

其可分（fèn）為三個步驟: 

(1)凝態的物質被加熱揮發成汽相  
(2)蒸汽在具空中移動一段距（jù）離至基材 
(3)蒸汽在基材上冷卻凝（níng）結成薄膜