真空蒸發鍍（dù）膜法（簡稱真空蒸鍍（dù）法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高（gāo）溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧（yǎng）化物）到一定溫度條件下， 

使其原子或分子從表麵汽化逸出，形（xíng）成蒸汽流，並飛行濺射到玻璃基板表麵凝結形成固態薄膜的方法。

由於真空蒸鍛法的主要物理過程是通（tōng）過加熱蒸發材料而產生（shēng），所以又稱熱蒸（zhēng）發法。蒸發源作（zuò）為蒸（zhēng）發裝置的關鍵部件（jiàn），

大多數蒸發材料都（dōu）要求在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空（kōng）蒸鍍法按蒸發源的不同可分為電阻法、電子束蒸發法、高頻感應法和激光蒸發法等。