本文從係統結構、參數控製和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術研究進展。按結構可分為單（dān）室、雙室和多室真空卷繞（rào）係統，後兩者可解決開卷放氣問題並分別控製卷繞和鍍（dù）膜室各自真空度。卷繞張力控製分錐度、間接和直（zhí）接控製模型，錐度控製模型可解決薄膜褶皺和徑向力分布不（bú）均的問題；間接張力控製無需傳感（gǎn）器，可用內置張力控製模（mó）塊的矢量變頻器代替；直接張力控製通過張力傳感器精確測量張力值，但需慣性矩和角（jiǎo）速度等多種參（cān）數。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發、磁（cí）控濺射等方（fāng）式（shì），可用於製備新型高折射率薄膜、石墨烯等納（nà）米材料和柔性太陽能電池等（děng）半導體器件。針對真空卷繞鍍膜技術研究現（xiàn）狀及向產業化（huà）過渡存在的問題，最（zuì）後作了（le）簡要分析與展望。

　　真空卷（juàn）繞鍍膜(卷對卷)是在（zài）真空下應用不同方法在柔性基體上實（shí）現連續（xù）鍍（dù）膜（mó）的一種技術。它涵蓋（gài）真空獲得、機電控製、高精傳（chuán）動和表麵分析等多（duō）方麵內容。其重點是，在保證鍍（dù）膜質量（liàng）前提下提高（gāo）卷繞速率、控製鍍膜穩定性及實施在線監控。卷對卷技（jì）術成本低、易操作、與柔性基底相容、生（shēng）產率高及可（kě）連續鍍多層膜等（děng）優點。第一台真空蒸發卷繞（rào）鍍膜機1935年製成，現可鍍幅寬由500 至2500mm。卷對卷技術（shù）應用由包裝和裝飾用膜，近年逐漸（jiàn）擴大至激光防偽膜（mó）、導電等功能薄膜（mó）方麵，是未來柔（róu）性電（diàn）子（zǐ）等行業的主流技術之一。

　　目前，國際前沿是研究不同製備工藝（yì）下功能薄膜特（tè）性（xìng）並（bìng）完善複合膜層製備。卷繞鍍膜機有向大型工業化和小型科研化方向發展的兩種趨勢，國（guó）內蘭州真空設備、廣東中環真空設備等公司（sī）多（duō）生產大型工業卷（juàn）繞設備， 國外如TW Graphics 和Intellivation 公司等，主要為科研機（jī）構提供小型或微型卷繞鍍膜機。

        真空卷繞鍍膜設備分類
　　真（zhēn）空卷對卷設備由抽真空（kōng）、卷（juàn）繞、鍍膜和電氣控（kòng）製等係統組成。據真空室有無擋板，可分單室、雙室（shì）和多室結構。單室的收放卷輥和鍍膜輥在同一室中，結構簡單但開卷時放氣會汙染真空環境。雙室結構（gòu）將係統用擋板隔成卷繞和鍍膜室，卷輥與（yǔ）擋板間隙約1.5mm，避免了類似開卷（juàn）放氣問題。多室常用於製備（bèi）複合薄膜，在雙（shuāng）室基礎上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避免幹（gàn）擾。如Krebs 等將Skultuna Flexibles AB 的開普頓擋板固定於兩磁控濺射靶間，板兩側塗覆50μm 的銅層。

　　分（fèn）隔擋板與真空室（shì）壁狹（xiá）縫越小越好。據鍍膜時輥筒作用（yòng）分為單主輥和多主輥卷繞鍍膜機。據電機個數，則可分為兩電機、三電（diàn）機和四電機驅動係統（tǒng）。

        總結與展望（wàng）

　　真空卷繞鍍膜因其大麵積、低成本、連續性等特點，比間（jiān）歇式鍍（dù）膜有很大優勢（shì），廣受國內外研究者和企（qǐ）業關注。當前卷繞鍍膜技術進展較快（kuài），解決了鏤空線、白條、褶皺等問題，開始用於製備石墨烯、有機太陽能電池和透明導電薄膜等新型功（gōng）能介質與器件。故對製膜過程（chéng）和成膜質量（liàng）提出了更高要求，真空機組主泵選擇從大抽速擴散泵（bèng）發展到無油超（chāo）高真空分子泵和低溫泵，開發出了大包角雙冷卻輥鍍膜機以減小薄（báo）膜拉伸變形。張（zhāng）力控製多用考慮（lǜ）夾感應張力的收卷（juàn）模型（xíng）和單跨非線性動（dòng）力（lì）學的放卷模（mó）型（xíng）。

　　目（mù）前卷繞鍍膜的（de）精密控製有待提高，例如轉印石墨烯時，難以徹底去除基底和石（shí）墨烯間的熱解膠（jiāo），且卷繞速度（dù）過快或基（jī）底較硬引發的切應力會使石墨烯層形成裂縫或孔洞。又如，真空卷繞發製備的有機薄膜表麵缺（quē）陷多，載流子遷移率較低，進而嚴重影響其器（qì）件的光電特性（xìng）。未來應增設薄膜應力等測控單元，融合CVD、離子鍍、高壓靜電紡絲、真空噴射和原（yuán）位聚合等成膜技術，為開發新型有（yǒu）機及其無機複（fù）合功能薄膜和器件提供保障。

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