HL係列多弧離子真空鍍膜機

日期:2016-01-13 10:01:54 人氣:94340
HL係列多(duō)弧離子真空鍍膜機

工作原理

HL係列多(duō)弧離子真空(kōng)鍍膜機工作原理是把真空弧光放電技術用於蒸發源的技術,即在真空環境下(xià)引燃蒸發源(陰(yīn)極),與陽極之間形(xíng)成自持弧光放電,既從陰極弧光輝點放出陰極物質的離子。由於電流局(jú)部的集中,產生的焦耳熱使陰極材料局部的(de)爆發性地等(děng)離子化,在工件偏壓的作(zuò)用下與反應氣體化合,而沉積在工件表麵上形成被鍍的膜層。

應用範圍

1、鍾表行(háng)業(表(biǎo)帶(dài)、表殼(ké)、表(biǎo)盤等)
2、五(wǔ)金行(háng)業(衛生潔具、門把手、拉手、門鎖(suǒ)等)
3、建築行業(不鏽鋼板、樓梯扶手、立柱等)
4、精密模具業(衝棒標準件模具、成型模具等)
5、工具行業(鑽頭、硬質合金、銑刀、拉刀、刀頭)
6、汽車工業(活塞(sāi)、活塞環、合金輪轂等)以及鋼筆、眼鏡等等,使其表麵得(dé)到既美觀又耐磨的功能性磨層。主(zhǔ)要鍍製的膜層有:離子金、離子銀、氮化鈦膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻以及RP鍍(dù)等(děng)超硬功能性金屬膜,經離子鍍膜加工後的工件,可以提高硬度、耐磨度,抗腐蝕和(hé)美化的作用。 
7、有色金屬製品(如銅、鋁、鋅、鎂等)不需水鍍直接鍍製膜層。

產品特點

1、裝備低溫(wēn)離子輔助源,無需加熱直接常溫冷鍍成膜(mó),節能省電,提高產能。
2、沉積速率高,鍍膜速度快,覆蓋領域廣,可以(yǐ)在多種產品上(shàng)鍍製各類裝飾(shì)膜或功能膜,是中、高端產品大量生產的適合設備。

技術參數表

HL係列多弧離子真空鍍膜(mó)機     
型(xíng)號(hào)HL-600HL-800HL-1000HL-1200HL-1400HL-1500HL-1600
真空室尺寸(cùn) Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT500擴散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統專用多弧鍍(dù)膜電源+多功(gōng)能孿生(shēng)磁環弧靶+柱形弧靶(可(kě)選配)
輔助鍍膜(mó)係統(tǒng)低溫離子輔助源(除工具鍍外無需加溫係統)
充氣係統質量流量計質量流量計(jì)質量流(liú)量計質(zhì)量流量計質量流(liú)量計質量流量計(jì)質量流量計
控製方式手動或全自動(dòng)手動或(huò)全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手(shǒu)動或(huò)全自動
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa
備注(zhù)以上設備參數僅做參考(kǎo),具(jù)體均(jun1)按客戶實際工藝要(yào)求設計訂做
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