CJ係列磁（cí）控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺（jiàn）射”就（jiù）是用荷能（néng）粒子（通（tōng）常（cháng）用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表麵原子從母體中（zhōng）逸出（chū）的現象。早在1842年Grove在實（shí）驗室中（zhōng）就發現了這種（zhǒng）現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場（chǎng）為曲線形，均勻電場和對（duì）數電場則分別用於平麵（miàn）靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用（yòng）下，加速（sù）飛向基片的過（guò）程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出（chū）Ar+並產生電子，電子飛向（xiàng）基片，Ar+在電（diàn）場作用下，加（jiā）速飛向（xiàng）陰極（濺（jiàn）射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高（gāo）爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在（zài）鍍製（zhì）超黑（hēi）膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的（de）鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較（jiào）大（dà）的表麵上獲得厚度均勻的膜（mó）層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺（jiàn）射原子產生不同程度的注入現（xiàn）象，在基片上形成（chéng）一層濺射原子與基片原（yuán）子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備（bèi）特殊材料的薄膜，可以使用不同的材料同（tóng）時濺（jiàn）射製備混合膜（mó）、化合膜（mó），還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜（mó）層純度高，濺射膜層中（zhōng）不會混入坩鍋加熱器材（cái）料的（de）成（chéng）份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜（mó），節能省電，提高產（chǎn）能。