CJ係列磁控濺射真空鍍（dù）膜機的磁控濺射工作原理，所（suǒ）謂（wèi）“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體（tǐ），從而引起物體表麵原子從母體中逸出的現象（xiàng）。早在（zài）1842年（nián）Grove在（zài）實（shí）驗室中就（jiù）發現了這種現象。磁控濺（jiàn）射靶采用靜止電磁場，磁（cí）場為曲線形，均勻電場和（hé）對數（shù）電場則分別（bié）用於平麵靶和同軸圓柱靶（bǎ）。電子在電（diàn）場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並（bìng）產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用（yòng）下，加速飛向陰極（jí）（濺射靶）並以高能量（liàng）轟擊靶表（biǎo）麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家（jiā）電電器、鍾表、高（gāo）爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷（cí）、磁磚等表麵裝飾（shì）性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜（mó）、純金裝飾膜、導電膜等領域有優（yōu）勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的（de）薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚（hòu）度均勻（yún）的膜層；
2）、薄膜與基片的附著（zhe）力強（qiáng）。部分（fèn）高能（néng）量的濺射原（yuán）子產生不同程度的注入現象（xiàng），在基片上形成一（yī）層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備（bèi）特殊材料的（de）薄（báo）膜，可以使用不（bú）同的材料同時濺射製備混合膜、化合（hé）膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層（céng）純度高，濺（jiàn）射膜層（céng）中不會（huì）混入（rù）坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝（zhuāng）備低溫離（lí）子輔助源，無需加熱直接（jiē）常（cháng）溫冷鍍成（chéng）膜，節能省電（diàn），提高（gāo）產能。